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出版社名:丸善出版
出版年月:2014年1月
ISBN:978-4-621-08721-3
444,49P 21cm
ウェスト&ハリスCMOS VLSI回路設計 基礎編
N.H.E.Weste/〔著〕 D.M.Harris/〔著〕 宇佐美公良/監訳 池田誠/監訳 小林和淑/監訳 宇佐美公良/〔ほか〕訳
組合員価格 税込 6,688
(通常価格 税込 7,040円)
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内容紹介・もくじなど
基礎的な原理の説明から、原理の応用、先端の設計事例にいたるまで、体系的に解説されたこの分野のバイブル。第4版ではナノメータ時代の設計技術に関する内容が充実。素子の微細化がLSI設計に与える課題として、素子の性能ばらつき、消費電力の増大、信号線および電源線のノイズ、クロック信号に関する設計を取り上げ、また65ナノメータの製造プロセスを使用した場合の例題を数多く示し、あらゆる読者のニーズに応えた内容。
もくじ情報:第1章 はじめに;第2章 MOSトランジスタの理論;第3章 CMOSプロセス技術;第4章 遅延;第5章 消費電力;第6章 配線;第7章 ロバスト性;第8章 回路シミュレーション
基礎的な原理の説明から、原理の応用、先端の設計事例にいたるまで、体系的に解説されたこの分野のバイブル。第4版ではナノメータ時代の設計技術に関する内容が充実。素子の微細化がLSI設計に与える課題として、素子の性能ばらつき、消費電力の増大、信号線および電源線のノイズ、クロック信号に関する設計を取り上げ、また65ナノメータの製造プロセスを使用した場合の例題を数多く示し、あらゆる読者のニーズに応えた内容。
もくじ情報:第1章 はじめに;第2章 MOSトランジスタの理論;第3章 CMOSプロセス技術;第4章 遅延;第5章 消費電力;第6章 配線;第7章 ロバスト性;第8章 回路シミュレーション
著者プロフィール
ウェスト,ニール・H.E.(ウェスト,ニールH.E.)
マクオーリー大学およびアデレード大学兼任教授。小規模の研究開発会社も経営。アデレード大学大学院修了。Ph.D.ベル研究所、デューク大学、ノースカロライナ大学等をへて現職
ウェスト,ニール・H.E.(ウェスト,ニールH.E.)
マクオーリー大学およびアデレード大学兼任教授。小規模の研究開発会社も経営。アデレード大学大学院修了。Ph.D.ベル研究所、デューク大学、ノースカロライナ大学等をへて現職