薄膜技術は長い歴史をもつ基礎的な技術であり、応用される分野は広い。とくに今日のナノテクノロジーは、微細加工・微細構造作製技術と組み合わされた薄膜技術なしには成り立たない。本書は薄膜の作製・評価・性質を系統的にまとめた解説書である。基本を重視する従来の編集方針はそのままに、第４版では新たに３項目「半導体薄膜（ワイドバンドギャップ材料）」「ハロゲン化金属ペロブスカイト薄膜（太陽電池への応用）」「２次元材料薄膜（グラフェン、ＭＸ２など）」を追加。薄膜技術の基礎・応用に携わる学生、研究者、技術者にとって最適な一冊である。
もくじ情報：１　薄膜工学の基礎（薄膜の歴史；薄膜と工学；薄膜形成技術；薄膜の応用）；２　薄膜作製法（真空蒸着法・ＭＢＥ法；スパッタリング化学気相成長；印刷法）；３　薄膜評価法（膜厚・形状評価；結晶構造評価；組成・状態分析；力学特性の評価）；４　薄膜の機能と応用（半導体薄膜（シリコン系）；半導体薄膜（化合物）　ほか）

田畑　仁(タバタ　ヒトシ)
東京大学大学院工学系研究科