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電子工学一般
出版社名:米田出版
出版年月:2003年9月
ISBN:978-4-946553-17-2
188P 19cm
ナノフォトニクスへの挑戦
大津元一/監修 村下達/〔ほか著〕
組合員価格 税込
1,777
円
(通常価格 税込 1,870円)
割引率 5%
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内容紹介・もくじなど
光をナノ寸法にすること。信念と勇気をもって、これを可能にした人たちの挑戦のストーリーを紹介。
もくじ情報:第1章 ナノフォトニクス事始め(ナノフォトニクスとは何か?;近接場光を使えばできる ほか);第2章 微細計測、分析への挑戦(ナノ領域には何がある?;ナノ領域を光らせる ほか);第3章 極限加工への挑戦(近接場光リソグラフィへの道のり;近接場光リソグラフィを実用技術に―二層レジスト ほか);第4章 高密度記録の限界への挑戦(高密度記録の必要性;では、どうやって高記録密度を実現するか? ほか);第5章 マイクロマシンの限界への挑戦(マイクロマシンの誕生;光技術とマイクロマシン ほか)
光をナノ寸法にすること。信念と勇気をもって、これを可能にした人たちの挑戦のストーリーを紹介。
もくじ情報:第1章 ナノフォトニクス事始め(ナノフォトニクスとは何か?;近接場光を使えばできる ほか);第2章 微細計測、分析への挑戦(ナノ領域には何がある?;ナノ領域を光らせる ほか);第3章 極限加工への挑戦(近接場光リソグラフィへの道のり;近接場光リソグラフィを実用技術に―二層レジスト ほか);第4章 高密度記録の限界への挑戦(高密度記録の必要性;では、どうやって高記録密度を実現するか? ほか);第5章 マイクロマシンの限界への挑戦(マイクロマシンの誕生;光技術とマイクロマシン ほか)
著者プロフィール
大津 元一(オオツ モトイチ)
1973年東京工業大学工学部電子工学科卒業、1978年同大学院理工学研究科電子物理工学専攻博士後期課程修了。現在、東京工業大学教授。工学博士(1978年)
大津 元一(オオツ モトイチ)
1973年東京工業大学工学部電子工学科卒業、1978年同大学院理工学研究科電子物理工学専攻博士後期課程修了。現在、東京工業大学教授。工学博士(1978年)
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もくじ情報:第1章 ナノフォトニクス事始め(ナノフォトニクスとは何か?;近接場光を使えばできる ほか);第2章 微細計測、分析への挑戦(ナノ領域には何がある?;ナノ領域を光らせる ほか);第3章 極限加工への挑戦(近接場光リソグラフィへの道のり;近接場光リソグラフィを実用技術に―二層レジスト ほか);第4章 高密度記録の限界への挑戦(高密度記録の必要性;では、どうやって高記録密度を実現するか? ほか);第5章 マイクロマシンの限界への挑戦(マイクロマシンの誕生;光技術とマイクロマシン ほか)