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出版社名:丸善
出版年月:2009年11月
ISBN:978-4-621-08208-9
227P 21cm
半導体デバイスシリーズ 1/集積ナノデバイス/半導体デバイスシリーズ   1
権田俊一/編集 谷口研二/編集/平本俊郎/編著 内田建/著 杉井信之/著 竹内潔/著
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シリーズ第1巻。ナノスケール以下のVLSIの集積化技術について、動作原理の基礎と各諸問題の技術的背景、その対処法をまとめる。
シリーズ第1巻。ナノスケール以下のVLSIの集積化技術について、動作原理の基礎と各諸問題の技術的背景、その対処法をまとめる。
内容紹介・もくじなど
変革期を迎えるVLSI技術、半導体デバイス技術の差別化のコア技術について、第一線の研究者、技術者がまとめた半導体工学の本格的専門書シリーズ。本書はシリーズ第1巻。ナノスケールVLSIデバイス技術について、動作原理の基礎と諸問題の技術的背景、その対処法をまとめた。ナノ領域における開発現場での応用と着目点、解決すべき問題を整理。
もくじ情報:1 序論(スケーリング則とムーアの法則;集積ナノデバイスの諸問題 ほか);2 MOSトランジスタの基礎(MOSトランジスタの構造と動作;MOSトランジスタの1次近似モデル ほか);3 微細トランジスタの性能向上(極薄膜Siや3次元構造Siによる新構造トランジス…(続く
変革期を迎えるVLSI技術、半導体デバイス技術の差別化のコア技術について、第一線の研究者、技術者がまとめた半導体工学の本格的専門書シリーズ。本書はシリーズ第1巻。ナノスケールVLSIデバイス技術について、動作原理の基礎と諸問題の技術的背景、その対処法をまとめた。ナノ領域における開発現場での応用と着目点、解決すべき問題を整理。
もくじ情報:1 序論(スケーリング則とムーアの法則;集積ナノデバイスの諸問題 ほか);2 MOSトランジスタの基礎(MOSトランジスタの構造と動作;MOSトランジスタの1次近似モデル ほか);3 微細トランジスタの性能向上(極薄膜Siや3次元構造Siによる新構造トランジスタ;移動度向上技術(ひずみSi、新チャネル材料));4 微細化・集積化にともなう諸問題(スケーリングによる微細化とその課題;微細MOSFETの信頼性 ほか);5 将来展望(将来に向けての技術動向;集積ナノデバイスマップ ほか)

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