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出版社名:シーエムシー出版
出版年月:2024年8月
ISBN:978-4-7813-1774-8
320P 26cm
最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術/TECHNICAL LIBRARY エレクトロニクスシリーズ
河合晃/監修
組合員価格 税込 4,752
(通常価格 税込 5,280円)
割引率 10%
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内容紹介・もくじなど
もくじ情報:第1編 総論;第2編 フォトレジスト材料の開発;第3編 フォトレジスト特性の最適化と周辺技術;第4編 材料解析・評価;第5編 応用展開;第6編 レジスト処理装置
もくじ情報:第1編 総論;第2編 フォトレジスト材料の開発;第3編 フォトレジスト特性の最適化と周辺技術;第4編 材料解析・評価;第5編 応用展開;第6編 レジスト処理装置