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高分子化学
出版社名:シーエムシー出版
出版年月:2016年7月
ISBN:978-4-7813-1172-2
248P 26cm
EB技術を利用した材料創製と応用展開/新材料・新素材シリーズ
鷲尾方一/監修 前川康成/監修
組合員価格 税込
65,340
円
(通常価格 税込 72,600円)
割引率 10%
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内容紹介・もくじなど
内容紹介:EBによる材料創製を目的に、基礎科学から実際の応用展開までまとめた成書。基礎編ではその現象と諸特性について解説。装置と計測技術編では、開発担当者が解説。三表利用編では新たな応用展開を紹介している。
もくじ情報:EB利用の基礎編(EB反応の基礎;重合・グラフト重合;架橋反応について);最近の装置の動向と計測技術編(岩崎電気(株)グループの低エネルギー電子線(EB)装置の動向;日立造船(株)の低エネルギー電子線エミッタ;(株)NHVコーポレーションの電子線照射装置;浜松ホトニクス(株)の低エネルギー電子線照射源;多彩な電子ビームを発生する半導体フォトカソード電子銃の開発;電子線の計測技術…(
続く
)
内容紹介:EBによる材料創製を目的に、基礎科学から実際の応用展開までまとめた成書。基礎編ではその現象と諸特性について解説。装置と計測技術編では、開発担当者が解説。三表利用編では新たな応用展開を紹介している。
もくじ情報:EB利用の基礎編(EB反応の基礎;重合・グラフト重合;架橋反応について);最近の装置の動向と計測技術編(岩崎電気(株)グループの低エネルギー電子線(EB)装置の動向;日立造船(株)の低エネルギー電子線エミッタ;(株)NHVコーポレーションの電子線照射装置;浜松ホトニクス(株)の低エネルギー電子線照射源;多彩な電子ビームを発生する半導体フォトカソード電子銃の開発;電子線の計測技術);EB照射技術の産業利用編(グラフト重合;架橋;分解(菌・無害化))
著者プロフィール
鷲尾 方一(ワシオ マサカズ)
早稲田大学理工学術院総合研究所教授
鷲尾 方一(ワシオ マサカズ)
早稲田大学理工学術院総合研究所教授
もくじ情報:EB利用の基礎編(EB反応の基礎;重合・グラフト重合;架橋反応について);最近の装置の動向と計測技術編(岩崎電気(株)グループの低エネルギー電子線(EB)装置の動向;日立造船(株)の低エネルギー電子線エミッタ;(株)NHVコーポレーションの電子線照射装置;浜松ホトニクス(株)の低エネルギー電子線照射源;多彩な電子ビームを発生する半導体フォトカソード電子銃の開発;電子線の計測技術…(続く)
もくじ情報:EB利用の基礎編(EB反応の基礎;重合・グラフト重合;架橋反応について);最近の装置の動向と計測技術編(岩崎電気(株)グループの低エネルギー電子線(EB)装置の動向;日立造船(株)の低エネルギー電子線エミッタ;(株)NHVコーポレーションの電子線照射装置;浜松ホトニクス(株)の低エネルギー電子線照射源;多彩な電子ビームを発生する半導体フォトカソード電子銃の開発;電子線の計測技術);EB照射技術の産業利用編(グラフト重合;架橋;分解(菌・無害化))