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出版社名:電子情報通信学会
出版年月:2014年3月
ISBN:978-4-88552-285-7
10,265P 21cm
ナノインプリント技術
松井真二/編著 平井義彦/編著 電子情報通信学会/編
組合員価格 税込
4,356
円
(通常価格 税込 4,840円)
割引率 10%
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内容紹介・もくじなど
ナノインプリントの基礎とともに現状で最新のナノインプリント装置と関連部材、多様なデバイス応用についてわかりやすく解説。実際にナノインプリント技術に取り組む際に参考になる最新の研究成果を網羅している。
もくじ情報:ナノインプリントと微細加工;ナノインプリントの物理化学とシミュレーション;熱ナノインプリント;UVナノインプリント;室温ナノインプリント;モールド技術;離型技術;装置技術;3次元化・積層技術;ナノ光学応用〔ほか〕
ナノインプリントの基礎とともに現状で最新のナノインプリント装置と関連部材、多様なデバイス応用についてわかりやすく解説。実際にナノインプリント技術に取り組む際に参考になる最新の研究成果を網羅している。
もくじ情報:ナノインプリントと微細加工;ナノインプリントの物理化学とシミュレーション;熱ナノインプリント;UVナノインプリント;室温ナノインプリント;モールド技術;離型技術;装置技術;3次元化・積層技術;ナノ光学応用〔ほか〕
著者プロフィール
松井 真二(マツイ シンジ)
昭56阪大・基礎工・博士了。同年日本電気(株)入社。基礎研究所にて電子・イオンビームを利用したナノテクノロジー研究、平9(株)半導体先端テクノロジー基盤技術研究部にて先端電子ビーム描画装置開発リーダを経て、平10‐15姫路工大高度研教授、平16兵庫県立大高度研教授。電子・イオンビーム・ナノインプリントを利用したナノテクノロジー研究開発に従事。工博。電子情報通信学会、応用物理学会、精密工学会各会員
松井 真二(マツイ シンジ)
昭56阪大・基礎工・博士了。同年日本電気(株)入社。基礎研究所にて電子・イオンビームを利用したナノテクノロジー研究、平9(株)半導体先端テクノロジー基盤技術研究部にて先端電子ビーム描画装置開発リーダを経て、平10‐15姫路工大高度研教授、平16兵庫県立大高度研教授。電子・イオンビーム・ナノインプリントを利用したナノテクノロジー研究開発に従事。工博。電子情報通信学会、応用物理学会、精密工学会各会員
もくじ情報:ナノインプリントと微細加工;ナノインプリントの物理化学とシミュレーション;熱ナノインプリント;UVナノインプリント;室温ナノインプリント;モールド技術;離型技術;装置技術;3次元化・積層技術;ナノ光学応用〔ほか〕
もくじ情報:ナノインプリントと微細加工;ナノインプリントの物理化学とシミュレーション;熱ナノインプリント;UVナノインプリント;室温ナノインプリント;モールド技術;離型技術;装置技術;3次元化・積層技術;ナノ光学応用〔ほか〕