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出版社名：技術評論社
出版年月：2012年1月
ISBN：978-4-7741-4939-4
３０１Ｐ　２１ｃｍ

はじめての半導体リソグラフィ技術/現場の即戦力

岡崎信次／著　鈴木章義／著　上野巧／著

組合員価格税込 2,554円
(通常価格税込 2,838円)
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内容紹介・もくじなど

もくじ情報：１章　半導体集積回路の発展とリソグラフィ技術；２章　光リソグラフィ技術；３章　電子線リソグラフィ技術；４章　Ｘ線・ＥＵＶリソグラフィ技術；５章　その他のリソグラフィ技術；６章　マスク技術；７章　レジスト技術；８章　計測評価技術；９章　リソグラフィ技術の課題と今後の展望

著者プロフィール

岡崎　信次(オカザキ　シンジ)
１９７０年東京工業大学理工学部電子工学科卒業。１９７０年（株）日立製作所中央研究所に入所。１９８０年より１年間米国Ｒｅｎｓｓｅｌａｔｅｒ　Ｐｏｌｙｔｅｃｈｎｉｃ　Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅに留学。１９９４年東京工業大学より工学博士授与。１９９５年日立製作所半導体事業部、１９９８年同社デバイス開発センターに異動、同年中央研究所に戻りＡＳＥＴに出向、ＥＵＶ研究室室長としてＥＵＶリソグラフィ技術の研究に従事。２００２年ＡＳＥＴ、ＥＵＶプロセス技術研究部部長に就任し、２００６年日立中研に戻る

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