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出版社名:大阪大学出版会
出版年月:2014年3月
ISBN:978-4-87259-465-2
379P 21cm
超精密加工と表面科学 原子レベルの生産技術
大阪大学グローバルCOEプログラム高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点/編 精密工学会超精密加工専門委員会/編
組合員価格 税込
2,970
円
(通常価格 税込 3,300円)
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内容紹介・もくじなど
次世代のさまざまな製造分野への応用が強く望まれる原子レベルの生産技術。原子レベルの制御性と環境調和性の実現をめざした超精密加工技術、「原子制御製造プロセス」の最新成果を、表面科学や計算物理学などの基礎科学分野と、材料・加工・計測を3本柱とする物づくり分野とが一体となった「ナノ表面科学」として体系化。
もくじ情報:第1部 表面ナノデザイン(コンピュータによるマテリアルデザイン;表面界面物性シミュレーション;表面反応過程シミュレーション);第2部 薄膜・ナノマテリアル創成プロセス(表面構造と物性制御;新機能薄膜創成技術;ナノデバイス創成技術);第3部 表面創成プロセス(ウェットプロセス;半導体ウェ…(
続く
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次世代のさまざまな製造分野への応用が強く望まれる原子レベルの生産技術。原子レベルの制御性と環境調和性の実現をめざした超精密加工技術、「原子制御製造プロセス」の最新成果を、表面科学や計算物理学などの基礎科学分野と、材料・加工・計測を3本柱とする物づくり分野とが一体となった「ナノ表面科学」として体系化。
もくじ情報:第1部 表面ナノデザイン(コンピュータによるマテリアルデザイン;表面界面物性シミュレーション;表面反応過程シミュレーション);第2部 薄膜・ナノマテリアル創成プロセス(表面構造と物性制御;新機能薄膜創成技術;ナノデバイス創成技術);第3部 表面創成プロセス(ウェットプロセス;半導体ウェットプロセス;大気圧気相プロセス);第4部 表面計測の新手法(形状計測;光プローブによる高機能計測;ナノプローブによる高機能計測)
もくじ情報:第1部 表面ナノデザイン(コンピュータによるマテリアルデザイン;表面界面物性シミュレーション;表面反応過程シミュレーション);第2部 薄膜・ナノマテリアル創成プロセス(表面構造と物性制御;新機能薄膜創成技術;ナノデバイス創成技術);第3部 表面創成プロセス(ウェットプロセス;半導体ウェ…(続く)
もくじ情報:第1部 表面ナノデザイン(コンピュータによるマテリアルデザイン;表面界面物性シミュレーション;表面反応過程シミュレーション);第2部 薄膜・ナノマテリアル創成プロセス(表面構造と物性制御;新機能薄膜創成技術;ナノデバイス創成技術);第3部 表面創成プロセス(ウェットプロセス;半導体ウェットプロセス;大気圧気相プロセス);第4部 表面計測の新手法(形状計測;光プローブによる高機能計測;ナノプローブによる高機能計測)