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出版社名：東北大学出版会
出版年月：2018年6月
ISBN：978-4-86163-296-9
２２８Ｐ　２１ｃｍ

超並列電子ビーム描画装置の開発　集積回路のディジタルファブリケーションを目指して

江刺正喜／著　宮口裕／著　小島明／著　池上尚克／著　越田信義／著　菅田正徳／著　大井英之／著

組合員価格税込 2,970円
(通常価格税込 3,300円)
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内容紹介・もくじなど

もくじ情報：第１章　マスクレス露光と電子ビーム描画・転写（マスクレス露光（描画）；各種電子ビーム描画・転写）；第２章　並列電子ビーム描画の課題（電子ビーム制御；電子ビームの集束と電子レンズ　ほか）；第３章　並列電子ビーム描画装置用電子源（研究されてきた各種電子源；ナノクリスタルシリコン（ｎｃ‐Ｓｉ）電子源）；第４章　超並列電子ビーム描画（ＭＰＥＢＷ）（システム構成；電子源アレイ　ほか）；第５章　応用と今後の課題（デバイス大量生産への応用；マルチビーム技術の直接描画への応用　ほか）

著者プロフィール

江刺　正喜(エサシ　マサヨシ)
１９７１年東北大学工学部電子工学科卒。１９７６年同大学院博士課程修了。同年より東北大学工学部助手、１９８１年助教授、１９９０年より教授となり現在（東北大学マイクロシステム融合研究開発センター（μＳＩＣ））に至る。半導体センサ、マイクロシステム、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ　Ｅｌｅｃｔｒｏ　Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ　Ｓｙｓｔｅｍｓ）の研究に従事

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