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本 > 工学 > 電気電子工学 > 半導体・ＩＣ
出版社名：シーエムシー出版
出版年月：2024年8月
ISBN：978-4-7813-1774-8
３２０Ｐ　２６ｃｍ
最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術/ＴＥＣＨＮＩＣＡＬ　ＬＩＢＲＡＲＹ　エレクトロニクスシリーズ
河合晃／監修
 
組合員価格 税込 4,752円
(通常価格 税込 5,280円)
割引率 10%
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内容紹介・もくじなど
もくじ情報：第１編　総論；第２編　フォトレジスト材料の開発；第３編　フォトレジスト特性の最適化と周辺技術；第４編　材料解析・評価；第５編　応用展開；第６編　レジスト処理装置
もくじ情報：第１編　総論；第２編　フォトレジスト材料の開発；第３編　フォトレジスト特性の最適化と周辺技術；第４編　材料解析・評価；第５編　応用展開；第６編　レジスト処理装置

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