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出版社名:シーエムシー出版
出版年月:2013年11月
ISBN:978-4-7813-0740-4
276P 26cm
触媒CVD〈Cat‐CVD〉の新展開 ラジカルを用いる新プロセス技術 普及版/エレクトロニクスシリーズ
中山弘/監修
組合員価格 税込 4,356
(通常価格 税込 4,840円)
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内容紹介・もくじなど
もくじ情報:総論 Cat‐CVD法の誕生、期待とその課題(Cat‐CVD法の誕生;Cat‐CVD膜の特徴 ほか);第1章 基礎編(低温成膜の物理とCat‐CVD―フィラメント表面での化学反応の評価;気相中のラジカル種の定量 ほか);第2章 Cat‐CVD装置(大型Cat‐CVD装置;簡易型Cat‐CVD装置 ほか);第3章 応用編(SiN―LSIトランジスターへの応用;レジストエッチング―水素ラジカルによるレジスト除去 ほか);第4章 材料各論(アモルファスおよび微結晶Si;エピタキシャルSiC ほか)
もくじ情報:総論 Cat‐CVD法の誕生、期待とその課題(Cat‐CVD法の誕生;Cat‐CVD膜の特徴 ほか);第1章 基礎編(低温成膜の物理とCat‐CVD―フィラメント表面での化学反応の評価;気相中のラジカル種の定量 ほか);第2章 Cat‐CVD装置(大型Cat‐CVD装置;簡易型Cat‐CVD装置 ほか);第3章 応用編(SiN―LSIトランジスターへの応用;レジストエッチング―水素ラジカルによるレジスト除去 ほか);第4章 材料各論(アモルファスおよび微結晶Si;エピタキシャルSiC ほか)