もくじ情報：第１章　半導体の種類と特徴；第２章　化合物半導体エピタキシャル成長の概要；第３章　液相エピタキシャル成長法（ＬＰＥ）とその応用；第４章　有機金属気相エピタキシャル成長法（ＭＯＶＰＥ）とその応用；第５章　分子線エピタキシャル成長法（ＭＢＥ）とその応用；第６章　ＭＯＶＰＥにおける流量変調エピタキシー（ＦＭＥ）；第７章　ＭＢＥにおけるマイグレーション・エンハンスト・エピタキシー（ＭＥＥ）；第８章　選択エピタキシャル成長法（ＳＡＥ）；第９章　エピタキシャル成長結晶の半導体レーザ（ＬＤ）への応用

堀越　佳治(ホリコシ　ヨシジ)
東北大学工学部電気工学科卒、同大大学院工学研究科電子工学専攻修士課程、博士課程修了。工学博士。ＮＴＴ基礎研究所研究員、ドイツ・マックスプランク固体研究所研究員、北海道大学客員教授、東北大学客員教授を経て、早稲田大学理工学部教授。早稲田大学名誉教授