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出版社名:シーエムシー出版
出版年月:2009年10月
ISBN:978-4-7813-0167-9
301P 27cm
マイクロ・ナノデバイスのエッチング技術/新材料・新素材シリーズ
式田光宏/監修 佐藤一雄/監修 田中浩/監修
組合員価格 税込
64,350
円
(通常価格 税込 71,500円)
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内容紹介・もくじなど
内容紹介:★ コスト面や生産性で優れるウエット,微細化に優れるドライ,そしてそれらの応用展開から構成される本書は,研究開発から生産現場まで広い範囲でお役に立てます!★ 太陽電池におけるテクスチャー形成,3次元実装におけるTSV(シリコン貫通ビア)形成など,最新のエッチング技術を掲載!★ 予想通りにエッチングができずにお困りなら,是非とも本書をご参考下さい!マイクロナノ領域におけるモノづくりは付加加工,除去加工とから成る。付加加工では,蒸着,スパッタ,CVDなどの薄膜形成技術が,除去加工では,イオンビーム,エッチング
もくじ情報:ウエットエッチング編(ウエットエッチングの基礎;シリコン結晶異方性…(
続く
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内容紹介:★ コスト面や生産性で優れるウエット,微細化に優れるドライ,そしてそれらの応用展開から構成される本書は,研究開発から生産現場まで広い範囲でお役に立てます!★ 太陽電池におけるテクスチャー形成,3次元実装におけるTSV(シリコン貫通ビア)形成など,最新のエッチング技術を掲載!★ 予想通りにエッチングができずにお困りなら,是非とも本書をご参考下さい!マイクロナノ領域におけるモノづくりは付加加工,除去加工とから成る。付加加工では,蒸着,スパッタ,CVDなどの薄膜形成技術が,除去加工では,イオンビーム,エッチング
もくじ情報:ウエットエッチング編(ウエットエッチングの基礎;シリコン結晶異方性エッチングの基礎;エッチピットおよびマイクロピラミッド発生メカニズム ほか);ドライエッチング編(ドライエッチングの基礎と各種パラメータの最適化;プラズマエッチングにおける表面反応機構;シリコン深堀エッチング ほか);エッチング技術の高機能化編(ウエハ回転方式によるシリコンエッチングの高精度均一化;電圧印加による等方性および異方性の制御;多段異方性エッチングによるエッチング形状の複雑化 ほか)
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もくじ情報:ウエットエッチング編(ウエットエッチングの基礎;シリコン結晶異方性エッチングの基礎;エッチピットおよびマイクロピラミッド発生メカニズム ほか);ドライエッチング編(ドライエッチングの基礎と各種パラメータの最適化;プラズマエッチングにおける表面反応機構;シリコン深堀エッチング ほか);エッチング技術の高機能化編(ウエハ回転方式によるシリコンエッチングの高精度均一化;電圧印加による等方性および異方性の制御;多段異方性エッチングによるエッチング形状の複雑化 ほか)