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出版社名:シーエムシー出版
出版年月:2016年3月
ISBN:978-4-7813-1101-2
301P 26cm
マイクロ・ナノデバイスのエッチング技術 普及版/新材料・新素材シリーズ
式田光宏/監修 佐藤一雄/監修 田中浩/監修
組合員価格 税込
4,752
円
(通常価格 税込 5,280円)
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内容紹介・もくじなど
内容紹介:2009年刊「マイクロ・ナノデバイスのエッチング技術」の普及版。コスト面や生産性で優れるウエット、微細化に優れるドライ、各エッチング技術とその応用展開をまとめている。太陽電池におけるテクスチャー形成、3次元実装におけるTSV形成技術等も紹介。
もくじ情報:ウエットエッチング編(ウエットエッチングの基礎;シリコン結晶異方性エッチングの基礎;エッチピットおよびマイクロピラミッド発生メカニズム ほか);ドライエッチング編(ドライエッチングの基礎と各種パラメータの最適化;プラズマエッチングにおける表面反応機構;シリコン深堀エッチング ほか);エッチング技術の高機能化編(ウエハ回転方式によるシ…(
続く
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内容紹介:2009年刊「マイクロ・ナノデバイスのエッチング技術」の普及版。コスト面や生産性で優れるウエット、微細化に優れるドライ、各エッチング技術とその応用展開をまとめている。太陽電池におけるテクスチャー形成、3次元実装におけるTSV形成技術等も紹介。
もくじ情報:ウエットエッチング編(ウエットエッチングの基礎;シリコン結晶異方性エッチングの基礎;エッチピットおよびマイクロピラミッド発生メカニズム ほか);ドライエッチング編(ドライエッチングの基礎と各種パラメータの最適化;プラズマエッチングにおける表面反応機構;シリコン深堀エッチング ほか);エッチング技術の高機能化編(ウエハ回転方式によるシリコンエッチングの高精度均一化;電圧印加による等方性および異方性の制御;多段異方性エッチングによるエッチング形状の複雑化 ほか)
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もくじ情報:ウエットエッチング編(ウエットエッチングの基礎;シリコン結晶異方性エッチングの基礎;エッチピットおよびマイクロピラミッド発生メカニズム ほか);ドライエッチング編(ドライエッチングの基礎と各種パラメータの最適化;プラズマエッチングにおける表面反応機構;シリコン深堀エッチング ほか);エッチング技術の高機能化編(ウエハ回転方式によるシリコンエッチングの高精度均一化;電圧印加による等方性および異方性の制御;多段異方性エッチングによるエッチング形状の複雑化 ほか)