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出版社名:秀和システム
出版年月:2020年9月
ISBN:978-4-7980-6245-7
255P 21cm
よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰/図解入門:How‐nual Visual Guide Book
佐藤淳一/著
組合員価格 税込
1,881
円
(通常価格 税込 2,090円)
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内容紹介・もくじなど
シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰。半導体製造工程の流れが図解でよくわかる。
もくじ情報:半導体製造プロセス全体像;前工程の概要;洗浄・乾燥ウェットプロセス;イオン注入・熱処理プロセス;リソグラフィプロセス;エッチングプロセス;成膜プロセス;平坦化(CMP)プロセス;CMOSプロセスフロー;後工程プロセスの概要;後工程の動向;半導体プロセスの最近の動向
シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰。半導体製造工程の流れが図解でよくわかる。
もくじ情報:半導体製造プロセス全体像;前工程の概要;洗浄・乾燥ウェットプロセス;イオン注入・熱処理プロセス;リソグラフィプロセス;エッチングプロセス;成膜プロセス;平坦化(CMP)プロセス;CMOSプロセスフロー;後工程プロセスの概要;後工程の動向;半導体プロセスの最近の動向
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よくわかる最新半導体製造装置の基本と仕組み ファブから検査まで製造装置を俯瞰する/図解入門:How‐nual Visual Guide Book
佐藤淳一/著
もくじ情報:半導体製造プロセス全体像;前工程の概要;洗浄・乾燥ウェットプロセス;イオン注入・熱処理プロセス;リソグラフィプロセス;エッチングプロセス;成膜プロセス;平坦化(CMP)プロセス;CMOSプロセスフロー;後工程プロセスの概要;後工程の動向;半導体プロセスの最近の動向
もくじ情報:半導体製造プロセス全体像;前工程の概要;洗浄・乾燥ウェットプロセス;イオン注入・熱処理プロセス;リソグラフィプロセス;エッチングプロセス;成膜プロセス;平坦化(CMP)プロセス;CMOSプロセスフロー;後工程プロセスの概要;後工程の動向;半導体プロセスの最近の動向